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硅片厚度测量仪/技术参数

发布:2024-07-05 14:21,更新:2024-11-21 07:00

硅片厚度测量仪/技术参数


铜箔、硅片、箔片、铝箔、金属箔片等材料在电子、电力、建筑、汽车等领域有着广泛的应用。这些材料都具有特定的厚度和精度要求,因此厚度测量是这些材料生产和加工过程中必不可少的一个环节。硅片厚度测量仪是一种常见的厚度测量仪器,通过接触式测量方法,可以准确地测量各种材料的厚度。

 

 

铜箔、硅片、箔片、铝箔、金属箔片等材料在厚度方面具有不同的特点。铜箔具有较高的导电性和耐腐蚀性,常用于制造电子线路和电器元件。硅片则是一种半导体材料,常用于制造集成电路和太阳能电池。箔片具有轻便、美观和防潮等特点,常用于包装和装饰领域。铝箔则具有轻便、防水和耐腐蚀等特点,常用于食品包装和建筑领域。金属箔片具有高强度和延展性等特点,常用于制造金属制品和汽车零部件。

 

针对这些不同材料的厚度测量,硅片厚度测量仪可以采用不同的测量头和传感器进行测量。对于铜箔和硅片,可以采用金刚石或碳化硅等高硬度材料制成的测量头和传感器,以避免对被测材料造成划伤或损坏。对于箔片和铝箔,可以采用柔性测量头和传感器,以避免对被测材料造成形变或破坏。

 

在铝箔的厚度测量中,硅片厚度测量仪可以选用专用的铝箔测量头和传感器进行测量。这种测量头采用特殊设计,可以避免对铝箔造成划伤或损坏,同时提高测量的精度和稳定性。此外,还可以选用数字式数据采集器,以便更准确地显示铝箔的厚度。

 

一种可靠的厚度测量仪器,适用于铜箔、硅片、箔片、铝箔、金属箔片等材料的厚度测量。针对不同材料的特性和应用领域,可以选择不同的测量头和传感器进行测量,以确保测量的精度和稳定性。同时,仪器的维护和保养也是保证其长期使用的重要环节。随着科技的不断发展,硅片厚度测量仪在不断地更新换代,测量精度和稳定性也不断提高。

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技术参数               

测量范围           0-2mm (其他量程可定制)

分辨率             0.1um

测量速度           10次/min(可调)

测量压力           17.5±1kPa(薄膜);100±1kPa(纸张)

接触面积           50mm²(薄膜),200mm²(纸张) 注:薄膜、纸张任选一种

进样步矩           0 ~ 1300 mm(可调)

进样速度           0 ~ 120 mm/s(可调)

机器尺寸           450mm×340mm×390mm (长宽高)

重    量           23Kg

工作温度           15℃-50℃

相对湿度           80%,无凝露

试验环境           无震动,无电磁干扰

工作电源           220V 50Hz

 

 

硅片厚度测量仪/技术参数

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